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YS-330L

低羟基合成石英

应用领域

中小尺寸保护片、窗口片等

产品优势

OH含量<250ppm、极低杂质元素含量

规格参数

主要杂质元素和羟基


含量(ppm,wt)LiNaKMgCaCuAlCrFeTi羟基
YS-330L<0.01 <0.02<0.01<0.01<0.01<0.005<0.01<0.005<0.005<0.005<250

采用ICP-MS法测定表中数据为典型值


光学透过性能


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