产品中心

PRODUCT CENTER

YS-330L

应用领域

中小尺寸保护片、窗口片等

产品优势

OH含量<250ppm,二步法合成工艺

规格参数

主要杂质元素和羟基(单位:ppm)


金属杂质含量LiNaKMgCaCuAlCrFeTi羟基
YS-330L≤0.01 ≤0.02≤0.01≤0.01≤0.01≤0.005≤0.01≤0.005≤0.005≤0.005<250


光学透过性能


QQ_1744908373821.png