应用领域
掩模版基板
产品优势
高紫外透过率、极低金属杂质元素含量、无气泡、高表面质量
PRODUCT CENTER
光学性能
| 牌号 | OH含量（pppm） | 应力双折射（nm/cm） | 条纹 | 透过率 | 内部透过率 | 适用于 |
| YSM-6025I | <250 | <5、<10 | 1D | >90.2%@365nm | >99.8%@193/248/365n | i-line、g-line |
| YSM-6025K | <250 | <2 | 1D | >92.0%@248nm | >99.8%@193/248/365n | KrF |
| YSM-6025A | <50 | ＜1 | 3D | >90.2%@193nm | >99.8%@193/248/365n | ArF |
光学透过性能
加工指标
具备满足半导体掩膜版用石英基板的加工与测试能力
多线切割
数控精雕
双面研磨抛光
超声清洗、深度清洗
缺陷检查
平面度测试（测试方法：原子力显微镜）
表面粗糙度测试（10μm*10μm）
| 等级 | I-LINE | KrE | ArF | |
平坦度 Flatness/um | Front | ≤2 | ≤1 | ≤0.5 |
| Back | ≤3 | ≤2 | ≤1 | |
总厚度变化TTV/um | ≤2 | ≤2 | ≤1 | |
粗糙度 Rms/nm | Front/Bac | ≤0.2 | ≤02. | ≤0.15 |