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低羟基光学用合成石英

YS-330LF

低羟基合成石英

应用领域

大型反射镜

产品优势

低弱吸收系数、低应力、应力双折射＜5nm/cm

规格参数

主要杂质元素和羟基

含量(ppm,wt)	Li	Na	K	Mg	Ca	Cu	Al	Cr	Fe	Ti	羟基
YS-330LF	<0.01	<0.02	<0.02	<0.02	<0.02	<0.005	<0.02	<0.005	<0.005	<0.005	<250

采用ICP-MS法测定，表中数据为典型值

光学透过性能

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